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      我國的專利授權“門檻”將進一步得到提高
          2008-08-26    陳菲 馮磊磊    來源:經濟參考報
        據新華社北京8月25日電 25日首次提請全國人大常委會審議的專利法修正案草案摒棄了現行專利法關于專利授權條件“相對新穎性標準”,而采用了“絕對新穎性標準”。這意味著我國的專利授權“門檻”將進一步提高。
        根據現行專利法的規定,一些沒有公開發表過的技術,雖然在國外已經被公開使用或者已經有相應的產品出售,只要在我國國內還沒有人公開使用或者沒有相應的產品出售,就可以在我國授予專利,從而導致我國專利質量不高。這既不利于激勵自主創新,也妨礙了國外已有技術在我國的應用。
        為此,專利法修正案草案采用了“絕對新穎性標準”:規定授予專利權的發明創造在國內外都沒有為公眾所知。此外,為進一步提高外觀設計專利的質量,草案還規定:對平面印刷品的主要起標識作用的設計不授予專利權。
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